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大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD 安瑞克(ANRIC)技術(shù)公司開發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術(shù)，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級(jí)的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反...

等離子體增強(qiáng)原子層沉積PEALDAT650P（等離子體增強(qiáng)）/ AT650T（熱型）AT650T可在用戶現(xiàn)場(chǎng)升級(jí)為AT650P

小型臺(tái)式 ALD（原子層沉積）工具專為簡(jiǎn)單的操作和安裝而設(shè)計(jì)，而不會(huì)犧牲其性能，用于成本效益型研究與開發(fā)。

AT-200M（熱原子層沉積系統(tǒng)）

粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD

該款A(yù)LD原子層沉積設(shè)備特別適用于科研用戶的小型臺(tái)式設(shè)備。它經(jīng)濟(jì)實(shí)用、操作簡(jiǎn)單、質(zhì)量穩(wěn)定可靠、售后耗材費(fèi)用極低、維修便捷、容易操作。ALD專家教授實(shí)驗(yàn)室被廣泛使用。

設(shè)備特點(diǎn)：$n$n脈沖電閃基反應(yīng)器是集閃蒸焦耳熱系統(tǒng)和快速焦耳熱系統(tǒng)為一體的反應(yīng)系統(tǒng)包括兩個(gè)電源系統(tǒng)(大功率電容系統(tǒng)和恒壓電源系統(tǒng))和電壓、電流、溫度實(shí)時(shí)測(cè)試系統(tǒng)。

市面上最小的ALD，可放進(jìn)手套箱，來(lái)自美國(guó)哈佛的原子層沉積系統(tǒng)$n兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。

kashiyama NeoDry-15G 真空泵產(chǎn)品特點(diǎn):$n·適合研究室等領(lǐng)域$n·無(wú)負(fù)荷運(yùn)行噪音小于45dB/36G：50dB（A）$n·選配Gas Ballast，...

IM4000Ⅱ標(biāo)準(zhǔn)離子研磨儀使用低能量Ar離子束，加工無(wú)應(yīng)力損傷的樣品截面，為SEM觀察樣品的內(nèi)部多層結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)、異物解析、層厚測(cè)量等提供有效的樣品前處理方法