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大尺寸臺(tái)式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD 安瑞克(ANRIC)技術(shù)公司開(kāi)發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術(shù)，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級(jí)的厚度控制而著稱(chēng)。其基本原理基于自限性表面反應(yīng)，即依次將前驅(qū)體引入到基底上，每次循環(huán)形成一層原子級(jí)薄膜。這種精確的控制使得能夠沉積出無(wú)缺陷且可重復(fù)的超薄薄膜，從光滑表面到復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)(如溝槽、多孔材料、纖維、膜和納米管)都能實(shí)現(xiàn)。

市面上最小的ALD，可放進(jìn)手套箱，來(lái)自美國(guó)哈佛的原子層沉積系統(tǒng)$n兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。

勻膠機(jī)有很多種稱(chēng)謂，英文叫SpinCoater或者SpinProcessor，又稱(chēng)甩膠機(jī)、勻膠臺(tái)、旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)、旋轉(zhuǎn)薄膜機(jī)、旋轉(zhuǎn)涂覆儀、旋轉(zhuǎn)涂膜儀、勻膜機(jī)，總的來(lái)說(shuō)，他們?cè)矶际且粯拥?，即在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類(lèi)膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)

小批量應(yīng)用的流延機(jī)，適合250mm載帶寬度，采取重力供應(yīng)漿料方式

CAM-C系列流延機(jī)面向較少資金投入的客戶(hù)設(shè)計(jì)，提供了更高的自動(dòng)化水平，更高的精度和緊湊型設(shè)計(jì)，是一個(gè)真正創(chuàng)新型流延機(jī)